




在众多离子电镀技术中,阴极电弧离子镀是集大成者,目前逐渐发展为硬质薄膜领域的主力。首先,带有正电位的引弧针靠近带有负电位的靶材,卷发棒电镀加工,阴阳两极之间距离足够小的时候,两极之间的气体会被击穿,卷发棒电镀,形成胡电流,此时,部分氮气发生离化,形成氮的阳离子以及电子。受到电场力的吸引,接下来氮的阳离子会飞翔阴极靶材附近,而电子会飞向引弧针,当电子到达阳极时,粒子将不能到达阴极靶面,而是在距离靶面较近的位置富集,形成正离子堆积层。然后电子会飞向正离子堆积层,形成电流,堆积层和靶面被导通,在靶面附近产生电弧,蒸发了靶材,同时吸引正离子,产生溅射。

都用在那些yi用材料?
常用的303、440c和17-4不锈钢、钛合金和一些工具钢,但不适用于铝,因为pvd涂层工艺的温度(500℃)接近铝材的熔点。
这么高的温度会对材料有影响么?
可能会改变材料的硬度或导致部件变形(收缩或增长),为了尽量减少这种可能的影响,通常建议将热敏部件在580℃至510℃°下进行回火处理后,再进行涂层处理。
pvd比cvd工艺有哪些优势?
工艺需要的温度---,涂覆后不需要二次热处理,且保持了原素材表面的光洁度,不需要再次抛光。
pvd比阳极氧化有什么优势?
更耐磨,色彩保持更长久,简单的就是更---,卷发棒电镀哪里有,更---。
pvd
1.target (靶材)是什幺?
答:在pvd中,卷发棒电镀厂,靶材是用来提供镀膜(film)的金属材料.
2.pvd 制程原理为何?
答:在target与wafer间加之高电位差,此时制程气体ar在高位差下解离成ar+,又因ar+带正电被电场吸引而撞向target,使target产生金属晶粒因重力作用而掉落至wafer形成film.此种工艺是 pvd.
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