什么是pvd镀膜靶材?
物理气相沉积(pvd)是一种薄膜制备技术，可在真空条件下将靶材的表面物理汽化为气态原子，分子或部分离子化为离子.然后，通过低压气体(或等离子体)将具有特定功能的膜沉积在基板的表面上.物理气相沉积的主要方法包括真空蒸发，溅射沉积，电弧等离子镀，离子镀等.pvd膜沉积速度快，附着力强，衍射性好，应用范围广.
“绿色镀膜技术”的研发推广，是我国电镀行业的一次技术---，铝合金电镀加工厂，将有效改变我国电镀行业资源消耗高、污染---的状况，促进电镀行业节能减排。
一、离子镀的概念
离子镀是一种物理气相沉积技术，光明铝合金电镀，通常在低气压气体放电等离子体环境中进行，也称为离子气相沉积。
二、离子镀的技术原理
离子镀技术采用专有设备和特定的水性化学原材料，应用化学反应的原理通过直接喷涂的方式达到电镀的效果，铝合金电镀哪里近，离子镀的镀层一般很薄，被喷物体表面呈现铬色、镍色、金以及各种色彩渐变色等镜面高光效果。
无论什么方法的离子电镀，基板会利用负电压或高周波（绝缘体的情况下）偏压，从而使离子加速可有效地调节运动能量。另外，由于气氛处于活跃状态，导入氧、氮等反应性气体就能镀出氧化物、氮化物、炭化物等的薄膜。一般，离子电镀膜的紧贴性---，高密度为特点。主要用于切削工具、金属模具、装饰品等的表面硬化膜或装饰膜，具代表性的为钛金属、铬金属的氮化膜、炭化膜、炭氮化膜等。
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