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靶材是通过磁控溅射、电子束蒸发或其他类型的镀膜系统(设备)在适当的工艺条件下,溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
一般靶材主要由靶坯、背板等部分构成,其中,铝合金电镀,靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的重要部分,在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。
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