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真空蒸发镀膜的定义

真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。括热蒸发和eb蒸发（电子束蒸发）

真空蒸发镀膜主要过程

1.采用各种能源方式转成热能，加热膜材使之蒸发或升华，成为具有一定能量的气态粒子（原子、分子和原子团）

2.离开膜材表面，pvd电镀厂，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；

3.到达基体表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜

4.组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合

热蒸发原理及特点

热蒸发是在真空状况下，将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温度，使原子蒸发，pvd电镀厂家，到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。特点：装置便宜、操作简单广泛用于au、ag、cu、ni、in、cr等导体材料。

真空电镀加工可以带来富丽的外观，有用改进了外观，装饰性极强，一起在电、热、耐蚀方面的功能也得到了改进。别的电镀因为结构所占的优势，具有优良的归纳功能，易于加工成型，其工件外表的镀层结合力较高。当然，电镀在资料方面就没有金属制品资料般为所欲为了，电镀在选择资料的时分要归纳考虑资料的加工功能、机械功能、资料本钱、电镀本钱、电镀工艺以及尺寸精度等要素。

真空电镀加工的流程：

1、溶剂处理：电镀的溶剂处理使外表能湿润以便与下一过程的调理剂效果。

2、调理处理：将外表粗化成内锁的凹洞以使镀层密着住不易剥离，pvd电镀，也称为化学粗化。

3、敏gan染：将还原剂吸附在外表，常用或其它锡化合物。

4、成核：将具有催化性物质如金、吸附于敏gan染（还原性）的外表，经还原效果结成具有催化性的金属种子然后可以用无电镀上金属。

5、清洁：电镀加工中的清洁是去除成型过程中留下的污物及指纹，可用碱剂洗净再用酸浸中和及水洗洁净。