




真空溅射镀膜的特点
对于任何待镀材料,只有能做成靶材,就能实现溅射
溅射所获得的薄膜与基片结合---
溅射所获得的薄膜纯度高,致密性好
溅射工艺可重复性好,膜厚可控制,耳机配件真空电镀公司,同时可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜
真空溅射镀膜的缺点
溅射设备复杂
溅射淀积的成膜速率低,真空蒸镀淀积速率为0.1~5μm/min
基板升温较高和易受杂质气体影响

pvd膜层能直接镀在不锈钢、硬质合金上、钛合金、陶瓷等表面,对锌合金、铜、铁等压铸件应---行化学电镀铬,然后才适合镀pvd。
pvd镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(tin[钛金]、zrn〔锆金〕、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn),以及氧化物膜(如tio等)。
pvd镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般为0.1μm~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~2μm,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,并能够维持工件尺寸基本不变,耳机配件真空电镀报价,镀后不须再加工。
我们目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色,浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,耳机配件真空电镀厂,黑色,灰黑色,七彩色,蓝色,紫色,红色,绿色等。通过控制镀膜过程中的相关参数,可以控制镀出的颜色;镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色值进行测量,使颜色得以量化,以确定所镀出的颜色是否满足要求。
真空电镀加工可以带来富丽的外观,有用改进了外观,装饰性极强,一起在电、热、耐蚀方面的功能也得到了改进。别的电镀因为结构所占的优势,具有优良的归纳功能,麻涌耳机配件真空电镀,易于加工成型,其工件外表的镀层结合力较高。当然,电镀在资料方面就没有金属制品资料般为所欲为了,电镀在选择资料的时分要归纳考虑资料的加工功能、机械功能、资料本钱、电镀本钱、电镀工艺以及尺寸精度等要素。
真空电镀加工的流程:
1、溶剂处理:电镀的溶剂处理使外表能湿润以便与下一过程的调理剂效果。
2、调理处理:将外表粗化成内锁的凹洞以使镀层密着住不易剥离,也称为化学粗化。
3、敏gan染:将还原剂吸附在外表,常用或其它锡化合物。
4、成核:将具有催化性物质如金、吸附于敏gan染(还原性)的外表,经还原效果结成具有催化性的金属种子然后可以用无电镀上金属。
5、清洁:电镀加工中的清洁是去除成型过程中留下的污物及指纹,可用碱剂洗净再用酸浸中和及水洗洁净。

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