深圳市瑞泓科技-pvd电镀加工价格-广东pvd电镀

从所周知，水电镀行业的损耗率通常是5%-8%左右，因此在实际合作洽谈过程中，广东pvd电镀，经常有客户拿水电镀的损耗率来与真空电镀工艺损耗率来对比，殊不知，水电镀和真空电镀虽然同属于表面电镀加工行业，但工艺却完全截然不同，水电镀加工是一种比较传统的表面电镀加工工艺，其原理是通过化学液体的浸泡、以化学置换的方式达到在塑胶表面添加金属膜层增强外观件金属---的的目的，由于工艺原理所限，水电镀加工的产品在、颜色丰富度、---性、信号穿透率、光穿透率、局部蔽镀等方面有着天然的缺陷，pvd电镀加工厂家，很多要求较高的电子行业产品因上述原因而不得不更改设计方案放弃表面水电镀加工；真空电镀工艺随之应运而生，相比于水电镀的化学置换工艺，真空电镀采用纯物理的真空蒸发镀膜方式将金属材料在气态蒸发状态下均匀吸附到塑胶件的表面，并在冷却后形成完整的金属膜层，解决了上述水电镀加工的众多弊端，加上真空电镀加工工艺在rohs及环境友好等方面的表现，已经越来越被众多的设计研发人员采用，广泛的应用于各行各业需要用金属---提升产品---的外观件产品中。

镀金属膜层，将待镀产品传入装有金属靶材的镀膜腔室，开启泵抽真空及加热装置进行基底加热，使得本底真空达到1×10-3pa 及达到80-150℃工艺温度后，向腔室通入10-1000sccm的ya气，启动溅射电源，设置溅射功率1-15kw，镀膜时间10-300s，得到厚度为1-100nm的金属膜层，金属膜层为铜(cu)、银(ag)、铝(al)、铬(cr)等金属膜层，pvd电镀加工价格，或镍铜(nicu)、镍铬(nicr)等合金膜层;

镀低折射率膜层，将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15kw，镀膜时间1-300s，得到厚度为1-100nm的低折射率膜层，此低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层;