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真空溅射镀膜的特点

对于任何待镀材料，只有能做成靶材，耳机配件真空电镀报价，就能实现溅射

溅射所获得的薄膜与基片结合---

溅射所获得的薄膜纯度高，致密性好

溅射工艺可重复性好，耳机配件真空电镀价格，膜厚可控制，同时可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜

真空溅射镀膜的缺点

溅射设备复杂

溅射淀积的成膜速率低，高埗耳机配件真空电镀，真空蒸镀淀积速率为0.1~5μm/min

基板升温较高和易受杂质气体影响

真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，真空镀膜真空镀膜设备是镀膜工业上的一个重要部分。

真空镀膜技术已广泛的应用在如：

集成电路电学膜、数据纪录储存膜、光学领域的光学膜、钟表领域的表壳、表带等；

计算机显示用的感光膜；

tft、pdp平面显示器上的导电膜和增透膜；

建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜；

包装领域应用的防护膜、阻隔膜等诸多领域。随着制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。