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pvd 是物理气相淀积，指通过物理手段（电、磁、重力），卷发棒电镀公司，令气体中的特定成分淀积在晶圆表面，卷发棒电镀工厂，形成薄膜。磁控溅射是pvd 的一种，属于比较老的薄膜生长技术之一，优点是成本较低，可以生长的薄膜种类多，缺点是薄膜一致性较差，台阶覆盖不好，强度较低。

cvd 是化学气相淀积，指令气体在晶圆表面发生化学反应，反应产物附着在晶圆表面形成薄膜。另外氧气（以及水蒸气）与晶圆本身反应生长氧化硅层一般单独分类为氧化，扬州卷发棒电镀，不属于cvd。优点是薄膜一致性好，缺点是受到反应气体种类---，卷发棒电镀，不是所有的薄膜都能生长。

其他的薄膜生长工艺还有氧化、电镀、外延、键合等。各有各的适用范围。

电镀工艺是利用电解的原理将导电体铺上一层金属的方法。电镀是指在含有预镀金属的盐类溶液中，以被镀基体金属为阴极，通过电解作用，使镀液中预镀金属的阳离子在基体金属表面沉积出来，形成镀层的一种表面加工方法。

镀层性能不同于基体金属，具有新的特征。根据镀层的功能分为防护性镀层，装饰性镀层及其它功能性镀层。

电镀是一种电化学过程，也是一种氧化还原过程.电镀的基本过程是将零件浸在金属盐的溶液中作为阴极，金属板作为阳极，接直流电源后，在零件上沉积出所需的镀层。



pvd涂层技术还能够广泛应用于各类磨损、咬合、腐蚀、粘着、融合等而引起失效的工具、模具、机械零件等。其中，因磨损引起的失效的产品(如：冲裁、冷镦、粉末成型等)涂层后可提高寿命2-20倍以上;因为咬合引起产品或模具的拉伤问题，涂层后能够从---上解决问题。pvd涂层在于制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、---的耐磨性和化学稳定性等优点。



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