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真空电镀基本过程

1.从原料中发射粒子（经过蒸发、升华、溅射和分解等过程）；

2.粒子输运到基片（粒子之间发生碰撞，pvd电镀，产生离化、复合、反应，能量的交换和运动方向的变化）；

3.粒子在基片上凝结、成核、长大和成膜。

真空蒸发镀膜，真空的定义

泛指低于一个---压的气体状态。与普通---压状态相比，分子密度较为稀薄，从而气体分子和气体分子、气体分子和器壁之间的碰撞几率要低一些。

真空镀膜行业中，ya气的流量大小具体如何控制?

如果是说镀膜时为了调节压力使用的气体 个人认为如下：ya气如果只是调节压力，一次压可以不计，但是二次压要小于0.5个---压。氮气也是，主要是因为如果大了，会导致真空仓内的压力变化太剧烈，导致误差。如果是使用离子源，那么ya气入气量不宜过大，大了导致离子量过大，烧坏部件。压力和上边没什么差别。

任何固体材料在---环境下都会溶解和吸附一些气体，当材料置于真空状态时就会因为脱附、解析而出气。出气的速率与材料中的气体含量成正比。不同的材料解析的气体成分及解析的温度及时间是不同的。