




pvd镀膜能够镀出的膜层种类,pvd镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(tin、zrn、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn),以及氧化物膜(如tio等)。pvd镀膜膜层的厚度—pvd镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般0.3μm~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm~1μm,卷发棒电镀表面处理,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,镀后不须再加工。

水电镀法:
工艺关键词:阳极溶解、阴极附着、电化学反应
水电镀法主要应用于打造高反射镜效果、增加附着层等,其优点是可镀大面积,成本低,缺点是电解液毒性高,工业污染大。
阳极氧化法:
工艺关键词:金属氧化成膜、电化学反应
阳极氧化亦可做成ta2o2、tio2、zro2、nb2o5、hfo2、wo3等,主要用作保护膜或着色装饰膜
pvd 是物理气相淀积,指通过物理手段(电、磁、重力),令气体中的特定成分淀积在晶圆表面,卷发棒电镀哪里有,形成薄膜。磁控溅射是pvd 的一种,属于比较老的薄膜生长技术之一,优点是成本较低,郴州卷发棒电镀,可以生长的薄膜种类多,缺点是薄膜一致性较差,台阶覆盖不好,强度较低。
cvd 是化学气相淀积,卷发棒电镀加工,指令气体在晶圆表面发生化学反应,反应产物附着在晶圆表面形成薄膜。另外氧气(以及水蒸气)与晶圆本身反应生长氧化硅层一般单独分类为氧化,不属于cvd。优点是薄膜一致性好,缺点是受到反应气体种类---,不是所有的薄膜都能生长。
其他的薄膜生长工艺还有氧化、电镀、外延、键合等。各有各的适用范围。

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