




真空法
这种方法是在高真空状态下令材料气化或离子化沉积于工件表面而形成镀层的过程。其主要方法是。
(一)物理气相沉积(pvd)
在真空条件下,将金属气化成原子或分子,或者使其离子化成离子,直接沉积到工件表面,形成涂层的过程,耳机配件真空电镀,称为物理气相沉积,其沉积粒子束来源于非化学因素,如蒸发镀溅射镀、离子镀等。
(二)离子注入
高电压下将不同离子注入工件表面令其表面改性的过程,称为离子注入,如注硼等。
(三)化学气相沉积(cvd)
低压(有时也在常压)下,气态物质在工件表面因化学反应而生成固态沉积层的过程,耳机配件真空电镀价格,称为化学气相镀,如气相沉积氧化硅、氮化硅等。

真空电镀加工的工艺流程
湿法工艺:1.化学浸镀、2.电镀、3.喷导电涂料
干法工艺:1.真空蒸镀、2.阴极溅镀、3.离子镀、4.烫金、5.熔融喷镀
真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。
常用的金属是铝等低熔点金属。
加热金属的方法:
有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。

真空溅射镀膜
1、真空溅射镀膜的定义
给靶材施加高电压(形成等离子状态),厚街耳机配件真空电镀,使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹,而在样品表面形成金属皮膜的方法。
2、磁控溅射镀膜的定义
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与ya原子发生碰撞,电离出大量的ya离子和电子,电子飞向基片,ya离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。
3、辉光放电的定义
辉光放电是指在稀薄气体中,两个电极之间加上电压时产生的一种气体放电现象。

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