pvd 是物理气相淀积，指通过物理手段（电、磁、重力），令气体中的特定成分淀积在晶圆表面，形成薄膜。磁控溅射是pvd 的一种，属于比较老的薄膜生长技术之一，福田金属表面处理，优点是成本较低，金属表面处理厂家，可以生长的薄膜种类多，缺点是薄膜一致性较差，台阶覆盖不好，强度较低。
cvd 是化学气相淀积，指令气体在晶圆表面发生化学反应，金属表面处理加工厂，反应产物附着在晶圆表面形成薄膜。另外氧气（以及水蒸气）与晶圆本身反应生长氧化硅层一般单独分类为氧化，不属于cvd。优点是薄膜一致性好，缺点是受到反应气体种类---，不是所有的薄膜都能生长。
其他的薄膜生长工艺还有氧化、电镀、外延、键合等。各有各的适用范围。
目前，在汽车上的电镀饰件基于处于逐步减少的状态，以前进气格栅为例，从主机厂包括一级供应商，对一些要求来降低成本、减轻自重、，包括大家目前的这些用户购买者的审美疲劳。
在汽车行业，十几年前，前格栅是整体注塑、整体电镀，然后再进行喷漆遮蔽。到现在变成局部电镀，变成饰条，装配到注塑件格栅的本体上面。目前，整体注塑、局部烫印，如奔驰或者其他这种满天星式的格栅。
随着技术的发展，pvd技术也不断推陈出新，出现了很多针对某几种用途的专门技术
真空蒸发镀膜技术
真空蒸发(vacuum evaporation) 镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质，金属表面处理哪里好，使之升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜，或加热蒸发镀膜材料的真空镀膜方法。其物理过程为：采用几种能源方式转换成热能，加热镀料使之蒸发或升华，成为具有一定能量(0.1~0.3ev) 的气态粒子(原子、分子或原子团)；离开镀料表面，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；到达基体表面的气态粒子凝聚形核生长成固相薄膜；组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合。
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