真空电镀工艺主要是通过加热器把膜材蒸发、蒸发的膜材原子或分子迁移吸附到基体表面的成膜工艺,因此根据膜材的种类不同大体可分为金属膜的真空电镀、合金膜的真空电镀及化合物的真空电镀这三大类。
从这一原理图中不难看出,真空电镀工艺过程是由膜材在蒸发源表面上的蒸发、蒸发后的粒子(主要是原子)在气相中的迁移、到达基片表面上通过吸附作用在基片表面上凝结生成薄膜等三个过程所组成。这种工艺过程创造一个---成膜条件是十分---的。
真空电镀技术指标
镀层厚度:3~5μm。
镀层硬度:1300~1800hv
真空电镀应用说明
1.刃具、模具等工具的表面强化。在高速钢、硬质合金制造的刃具(如钻头、铣刀、车刀)及模具表面获得硬度的tin、tic、zrn等镀层,提高刃具、模具的耐磨性和外观。
2.机械零件的表面强化。如凸轮、叶片、气门、轧辊表面获得耐磨镀层,延长零件使用寿命。
3.彩色膜钢板生产应用。可在尺寸为1m×2m、厚度为0.2mm~0.6mm的不锈钢板和低碳钢板上获得金黄色tin或其它彩色膜, 耐磨耐蚀性好,手机配件ip电镀公司,彩色膜钢板用于饭店、宾馆、办公大楼等装饰用。
4.日用品的装饰镀。如手表壳、表带、眼镜架、餐具、卫生洁具、吊灯、门把等的装饰。
真空电镀反应溅射:
1.在溅射镀膜时,有意识地将某种反应性气体如氮气,氧气等引入溅射室并达到一定分压,即可以改变或者控制沉积特性,从而获得不同于靶材的新物质薄膜,2.如各种金属氧化物、氮化物、碳化物及绝缘介质等薄膜。
3.直流反应溅射存在靶z毒,清溪手机配件ip电镀,阳极消失问题,上个世纪80年代出现的直流脉冲或中频孪生溅射,使反应溅射可以---的工业应用。
4.反应磁控溅射所用的靶材料(单位素靶或多元素靶)和反应气体(氧、氮、碳氢化合物等)通常很容易获得---的纯度,因而有利于制备高纯度的化合物薄膜。
5.反应磁控溅射中调节沉积工艺参数,可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜,手机配件ip电镀哪里好,从而达到通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性的目的。
6.反应磁控溅射沉积过程中基板温度一般不会有很大的升高,手机配件ip电镀加工厂,而且成膜过程通常也并不要求对基板进行---温度的加热,因而对基板材料的---较少。
7.反应磁控溅射适合于制备大面积均匀薄膜,并能实现对镀膜的---工业化生产。
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