在不同的行业电镀代表不同的意思。例如在现在的手机行业里，水电镀很少有应用，在很多人的脑海里，电镀一般指的真空镀，而在卫浴行业，水电镀的应用很多，当然一般的电镀指的水电镀。
水电镀和真空镀都属于镀膜，pvd电镀哪里近，让我们从镀膜的分类说起，看看各类镀膜之间的区别是什么。
镀膜按成型方法分类如下:
1. 固相法:--- >;化学变化
2. 液相法:--- >;化学变化
3. 气象法:--- >;化学变化和物理变化
详细分类如下:
其中常用的镀膜方式有:水电镀、阳极氧化、真空蒸镀、真空溅镀、离子镀。接下来，桥头pvd电镀，将从cmf---的角度，对上述镀膜方法逐一讲解。
随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，pvd电镀加工价格，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。
真空系统的基本知识
真空的定义：压力低于一个---压的任何气态空间，pvd电镀工厂，采用真空度来表示真空的高低。
真空单位换算：1---压≈1.0×105帕=760mmhg=760托
1托=133.3pa=1mmhg
1bar=100kpa
1mbar=100pa
1bar=1000mbar
tco玻璃=transparent conductive oxide 镀有透明导电氧化物的玻璃
tco材料：
sno2:f(fto fluorine doped tin oxide氟掺杂yang化锡)
zno:al(azo aluminum doped zinc oxide铝掺杂氧化锌)
in2o3:sn(ito indium tin oxide 氧化铟锡)
tco薄膜的制备工艺
1. 薄膜的性质是由制备工艺决定的，改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好，薄膜生长温度低，与基板附着性好，能大面积均匀制膜且制膜成本低。
2.主要生产工艺：镀膜过程中有气压、基片温度、靶材功率、镀膜速度；刻蚀过程中有hcl浓度、刻蚀速度、刻蚀温度。
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