深圳市瑞泓科技-耳机配件真空电镀加工厂-浙江耳机配件真空电镀

真空电镀反应溅射：

1.在溅射镀膜时，有意识地将某种反应性气体如氮气，耳机配件真空电镀，氧气等引入溅射室并达到一定分压，即可以改变或者控制沉积特性，从而获得不同于靶材的新物质薄膜，2.如各种金属氧化物、氮化物、碳化物及绝缘介质等薄膜。

3.直流反应溅射存在靶z毒，浙江耳机配件真空电镀，阳极消失问题，上个世纪80年代出现的直流脉冲或中频孪生溅射，使反应溅射可以---的工业应用。

4.反应磁控溅射所用的靶材料（单位素靶或多元素靶）和反应气体（氧、氮、碳氢化合物等）通常很容易获得---的纯度，因而有利于制备高纯度的化合物薄膜。

5.反应磁控溅射中调节沉积工艺参数，可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜，从而达到通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性的目的。

6.反应磁控溅射沉积过程中基板温度一般不会有很大的升高，而且成膜过程通常也并不要求对基板进行---温度的加热，因而对基板材料的---较少。

7.反应磁控溅射适合于制备大面积均匀薄膜，并能实现对镀膜的---工业化生产。

相对蒸发电镀，磁控溅射有如下的特点：

1．膜厚可控性和重复性好

2.薄膜与基片的附着力强

3.可以制备绝大多数材料的薄膜，包括合金，化合物等

4.膜层纯度高，致密

5.沉积速率低，设备也更复杂

磁控溅射镀膜按照电源类型可分为：直流溅射、中频溅射、射频溅射。

反应溅射的应用：

1.现代工业的发展需要应用到越来越多的化合物薄膜。

2.如光学工业中使用的tio2、sio2和tao5等硬质膜。

3．电子工业中使用的ito透明导电膜，sio2、si2n4和al2o3等钝化膜、隔离膜、绝缘膜。

4.建筑玻璃上使用的zno、sno2、tio2、sio2等介质膜