耳机配件真空电镀表面处理-瑞泓科技公司-江门耳机配件真空电镀

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    2023-11-29

杨小姐
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即在真空状态注入ya气,ya气桩基靶材,耳机配件真空电镀表面处理,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。

总体说来,江门耳机配件真空电镀,手机配件用真空电镀膜技术具有以下几个优势:

1、表面增亮:手机刚购买时光度可达80,手机即使沾上灰尘,依然光彩照人。

2、防氧化:用真空镀膜机操作,离子轰击覆盖配件表面,耳机配件真空电镀工厂,可防止商品---氧化。

3、时间长效:黄金甲具有的表面面积,具有---地附着能力,效果可以维持几年以上,不会氧化,不容易脱落。

4、无任何污染:由于镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面,没有溶液污染,所以对环境没有危害,。






真空离子镀技术具有下列优点:

1.可获得高硬度的镀层,镀层摩擦系数小,耐磨性高。

2.镀层化学稳定性好,抗高温氧化,耐蚀性好。

3.镀层美观。可获得如18k金的金黄---泽及其它彩色膜。

4.镀层与基材结合力高。其结合力要高于传统的磁控溅射、真空蒸镀等涂层,镀层不易剥落。

5.生产过程对环境无污染。镀层形成速度快,节电、节水。




真空系统的基本知识

真空的定义:压力低于一个---压的任何气态空间,耳机配件真空电镀加工厂家,采用真空度来表示真空的高低。

真空单位换算:1---压≈1.0×105帕=760mmhg=760托

1托=133.3pa=1mmhg

1bar=100kpa

1mbar=100pa

1bar=1000mbar

tco玻璃=transparent conductive oxide 镀有透明导电氧化物的玻璃

tco材料:

sno2:f(fto fluorine doped tin oxide氟掺杂yang化锡)

zno:al(azo aluminum doped zinc oxide铝掺杂氧化锌)

in2o3:sn(ito indium tin oxide 氧化铟锡)

tco薄膜的制备工艺

1. 薄膜的性质是由制备工艺决定的,改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好,薄膜生长温度低,与基板附着性好,能大面积均匀制膜且制膜成本低。

2.主要生产工艺:镀膜过程中有气压、基片温度、靶材功率、镀膜速度;刻蚀过程中有hcl浓度、刻蚀速度、刻蚀温度。







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