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离子镀

工艺关键词:真空气体放电、解离靶材、轰击基材

主要原理是利用气体放电现象，将薄膜材料解离成离子状态，株洲pvd电镀，而后沉积于基板上。

离子镀的基本镀膜系统为pvd系统，只是多加入反应性气体，使其与蒸发后的薄膜材料反应，而后沉积在基板上形成化合物，所以薄膜镀层的组成成分与原薄膜材料不同，是基材靶材的化合物。

离子镀基本上包括三个步骤 :

1. 将固态原子变成气态原子:可用真空蒸镀之各种蒸发源及各种溅射机制达到此一目的;

2. 将气态原子变成离子态，以提高原料的离子化程度(通常可达1%):可用各种离子元传送能量给原料原子，以达到始之离子化的程度;

3. 提升离子态原料所带的能量以提高薄膜的品质:可在基本上加上适当负偏压，以达到加速离子的能力。

离子镀原理

离子镀的特点如下:

1. 离子镀可在较低温度600度下进行;

2. 附着性---;

3. 绕射性----带电原子能达到基本的所有表面而沉积镀层;

4. 沉积速度快，可达1~5um，而一般二级板型溅射速度只有0.01~1.0um/min;

5. 加工性及薄膜材料的选择性广，可加工除金属外，陶瓷，玻璃 ，塑胶均可，而薄膜材料的选择也很广泛，金属，合金，化合物皆可。

真空蒸发（真空蒸发）磁控溅射（真空溅射）>; 离子镀 （真空离子镀） 真空镀膜一般很薄，有三个---的优点：速度快，附着力好，pvd电镀加工价格，颜色多样。然而，真空电镀具有相对较高的加工成本。传统电镀比真空电镀厚，成本相对较低，但颜色比较单调，不符合要求。真空镀膜因其膜材和基体材料的广泛选择，被广泛应用于家电、化妆品包装甚至航空制造业和不锈钢行业。然而，传统电镀广泛应用于工业，pvd电镀加工，如汽车工业。以长久发展来看，传统电镀的污染显然不适合当前的---和可持续发展战略。尽管真空电镀的工艺条件相对苛刻，成本相对较高，但它可能更适合当前的社会发展。

真空电镀技术指标

镀层厚度：3～5μm。

镀层硬度：1300～1800hv

真空电镀应用说明

1.刃具、模具等工具的表面强化。在高速钢、硬质合金制造的刃具（如钻头、铣刀、车刀）及模具表面获得硬度的tin、tic、zrn等镀层，提高刃具、模具的耐磨性和外观。

2.机械零件的表面强化。如凸轮、叶片、气门、轧辊表面获得耐磨镀层，延长零件使用寿命。

3.彩色膜钢板生产应用。可在尺寸为1m×2m、厚度为0.2mm～0.6mm的不锈钢板和低碳钢板上获得金黄色tin或其它彩色膜， 耐磨耐蚀性好，彩色膜钢板用于饭店、宾馆、办公大楼等装饰用。

4.日用品的装饰镀。如手表壳、表带、眼镜架、餐具、卫生洁具、吊灯、门把等的装饰。

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