




真空蒸发镀工艺流程
工件>;镀前处理>;装件>;烘烤>;离子轰击>;预熔>;蒸发沉积>;冷却>;取件>;后处理>;成品
真空溅射镀工艺流程
工件>;镀前处理>;装件>;抽真空>;烘烤、轰击>;预熔>;溅射沉积>;冷却>;取件>;后处理>;成品
真空离子镀工艺流程
工件>;镀前处理>;装件>;抽真空>;烘烤>;离子轰击>;离子沉积>;冷却>;取件>;后处理>;成品
它是将镀膜材料置于真空镀膜室内,通过蒸发源使其加热蒸发。当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基片间的尺寸后,泰州pvd电镀,蒸发的粒子从蒸发源表面溢出,pvd电镀厂,在飞向基片表面过程中很少碰到其他例子(主要是残余气体分子)的碰撞阻碍,pvd电镀报价,直接到达基材表面上凝结而生成薄膜。
一般真空电镀在民用工业的装饰膜和包装膜中应用较多。例如:汽车、灯具、玩具、交通工具、家用电器用具、工艺美术品、日用小商品、手机边框、化妆品及其他一些包装类产品上。

真空蒸镀又称热蒸发蒸镀法
工艺关键词:高温溶解蒸发、沉积后覆膜
依薄膜材料之加热方式之不同,pvd电镀,真空蒸镀又可分为间接加热型与直接加热型。
1. 间接加热型:只针对蒸发源加热,间接使其上之薄膜材料因热而蒸发;
2. 直接加热型:利用高能粒子(电子束,电浆或镭射)或高频,直接使置于蒸发源上之薄膜材料升温而蒸发;
为避免蒸发源(容器)随着薄膜材料一同被蒸发,蒸发源材质的熔点一定要高于薄膜材料的沸点。
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