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真空电镀--磁控溅射镀膜技术

一、磁控溅射镀膜－溅射原理：

1.使chamber达到真空条件，一般控制在(2~5)e-5torr

2.chamber内通入ar，并启动dc power

3.ar发生电离：ar ? ar+ ＋ e-

4.在电场作用下，电子会加速飞向阳极

5.在电场作用下，惠州pvd电镀，ar+会加速飞向阴极的target（靶材），target粒子及二次电子被击出，前者到达substrate（基片）表面进行薄膜成长，pvd电镀哪里近，后者被加速至阴极途中促成更多的电离。

6.垂直方向分布的磁力线将电子约束在靶材表面附近，延长其在等离子体中的运动轨迹，提高它参与气体分子碰撞和电离过程的几率的作用。

真空蒸发（真空蒸发）磁控溅射（真空溅射）>; 离子镀 （真空离子镀） 真空镀膜一般很薄，有三个---的优点：速度快，附着力好，pvd电镀加工，颜色多样。然而，真空电镀具有相对较高的加工成本。传统电镀比真空电镀厚，成本相对较低，但颜色比较单调，不符合要求。真空镀膜因其膜材和基体材料的广泛选择，被广泛应用于家电、化妆品包装甚至航空制造业和不锈钢行业。然而，传统电镀广泛应用于工业，如汽车工业。以长久发展来看，传统电镀的污染显然不适合当前的---和可持续发展战略。尽管真空电镀的工艺条件相对苛刻，成本相对较高，但它可能更适合当前的社会发展。

相对蒸发电镀，pvd电镀加工厂家，磁控溅射有如下的特点：

1．膜厚可控性和重复性好

2.薄膜与基片的附着力强

3.可以制备绝大多数材料的薄膜，包括合金，化合物等

4.膜层纯度高，致密

5.沉积速率低，设备也更复杂

磁控溅射镀膜按照电源类型可分为：直流溅射、中频溅射、射频溅射。

反应溅射的应用：

1.现代工业的发展需要应用到越来越多的化合物薄膜。

2.如光学工业中使用的tio2、sio2和tao5等硬质膜。

3．电子工业中使用的ito透明导电膜，sio2、si2n4和al2o3等钝化膜、隔离膜、绝缘膜。

4.建筑玻璃上使用的zno、sno2、tio2、sio2等介质膜

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