耳机配件真空电镀工厂-瑞泓科技-揭阳耳机配件真空电镀

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    2023-12-24

杨小姐
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真空蒸镀又称热蒸发蒸镀法

工艺关键词:高温溶解蒸发、沉积后覆膜

依薄膜材料之加热方式之不同,耳机配件真空电镀工厂,真空蒸镀又可分为间接加热型与直接加热型。

1. 间接加热型:只针对蒸发源加热,间接使其上之薄膜材料因热而蒸发;

2. 直接加热型:利用高能粒子(电子束,电浆或镭射)或高频,直接使置于蒸发源上之薄膜材料升温而蒸发;

为避免蒸发源(容器)随着薄膜材料一同被蒸发,蒸发源材质的熔点一定要高于薄膜材料的沸点。




在金属薄膜层的制备上,多采用真空电镀法。当下比较通用的的金属膜层分别有铝、锡、铟、铟锡合金、铬等。几种金属薄膜在应用上的差异主要表现在外观和导电性这两块上。

其中铟、锡、铟锡合金多用于电子产品,如手机、电脑边框和按,此类金属膜层不仅能赋予基材金属外观还具有其他几种金属膜不具备的膜延展性。这两种金属活性较低不易导电,对电子类产品信号产生影响较小也是其主要应用原因之一,所以通常我们也称之为不导电镀膜。铬金属膜外观黑亮,耳机配件真空电镀表面处理,金属---强,耳机配件真空电镀加工价格,并且具有较好的硬度因此受到一些装饰品和玩具制造者的---。

同其他几种金属膜相比应用z广泛的铝膜层,如制镜工业的以铝代银,集成电路中的铝刻蚀导线;聚酯薄膜表面镀铝制作电容器;涤纶聚酯薄膜镀铝制作,防止紫外线照射软包装袋;以及我们日常生活中所常见到的玩具、化妆品外包装及一些装饰品。

真空蒸镀铝薄膜既可选用间歇式蒸发真空镀膜,也可选用半连续式真空镀膜机。其蒸发源即可为电阻源、电子束源,揭阳耳机配件真空电镀,也可以选用感应加热式蒸发源,可依据蒸镀膜材的具体要求而定。

真空蒸发镀铝涂层的工艺参数,主要包括蒸镀室压力、沉积速率、基片温度、蒸发距离等。如果从膜片基体---布的均匀性上考虑,还应注意蒸发源对基片的相对位置及工件架的运动状态等因素。例如选用电子束蒸发源进行铝层制备时,其典型的主要工艺参数可选用:镀膜室工作压力2.6*10-4pa、蒸发速率为2~2.5nm/s、基片温度20℃,蒸距为450mm、电子束电压为9kv,电流为0.2a。






真空离子镀技术具有下列优点:

1.可获得高硬度的镀层,镀层摩擦系数小,耐磨性高。

2.镀层化学稳定性好,抗高温氧化,耐蚀性好。

3.镀层美观。可获得如18k金的金黄---泽及其它彩色膜。

4.镀层与基材结合力高。其结合力要高于传统的磁控溅射、真空蒸镀等涂层,镀层不易剥落。

5.生产过程对环境无污染。镀层形成速度快,节电、节水。




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