




在表面处理工艺上,真空电镀成为新趋势。更安全、更节能、降低噪声、减少污染排放的特点,与一般电镀不同,真空电镀,可以生产出普通电镀无法达到的光泽度---的黑色效果。
真空电镀步骤:在工件上先喷一层底漆,再做电镀。由于工件是塑料件,在注塑时会残留空气泡,pvd电镀,有机气体,而在放置时会吸入空气中的水分。另外,由于塑料表面不够平整,pvd电镀加工厂家,直接电镀的工件表面不光滑,pvd电镀,光泽低,金属感差,并且会出现气泡,水泡等---状况。喷上一层底漆以后,会形成一个光滑平整的表面,并且避免了塑料本身存在的气泡水泡的产生,使得电镀的效果得以展现。
真空电镀工艺流程复杂,非常依赖人工操作。工件(靶材)需要喷涂、装卸、再喷涂,并且也取决于工件的复杂度和数量,所以人力成本---。真空环境下辐射小、环境污染小,真空电镀现为各行业中广泛应用。

真空电镀:vacuum metalizing,即是物理气相沉积(pvd),即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片,如航海望远镜镜片,后来随着技术的改进,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。除了自然材料以外,适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料(abs料、abs+pc料、pc料等等)、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。真空电镀所使用设备通常较为高昂,加上工艺流程复杂,对环境要求高;为此真空电镀单价比水电镀昂贵。真空电镀受设备内真空环境体积影响,因此对靶材尺寸有一定的要求,不适合大靶材,常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m(3.94 * 3.3ft),3d工件应小于1.2 * 0.5m(3.94 * 1.6ft)
真空电镀的工件表面必须保持干燥、光滑,否则会影响处理效果。真空电镀可镀色彩丰富,可以镀7色,比水电镀的颜色要丰富,可达到阳极铝、亮铬、金、银、铜和炮铜(一种铜锡合金)等丰富多彩的效果。水电镀一般只有镀铜(红色),镀镍(偏黄的银色),镀金,镀银,pvd电镀价格,镀铬(银白色)等单调色彩。真空电镀是常见的金属表面处理技术。

真空系统的基本知识
真空的定义:压力低于一个---压的任何气态空间,采用真空度来表示真空的高低。
真空单位换算:1---压≈1.0×105帕=760mmhg=760托
1托=133.3pa=1mmhg
1bar=100kpa
1mbar=100pa
1bar=1000mbar
tco玻璃=transparent conductive oxide 镀有透明导电氧化物的玻璃
tco材料:
sno2:f(fto fluorine doped tin oxide氟掺杂yang化锡)
zno:al(azo aluminum doped zinc oxide铝掺杂氧化锌)
in2o3:sn(ito indium tin oxide 氧化铟锡)
tco薄膜的制备工艺
1. 薄膜的性质是由制备工艺决定的,改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好,薄膜生长温度低,与基板附着性好,能大面积均匀制膜且制膜成本低。
2.主要生产工艺:镀膜过程中有气压、基片温度、靶材功率、镀膜速度;刻蚀过程中有hcl浓度、刻蚀速度、刻蚀温度。

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