衡阳pvd电镀-pvd电镀厂家-瑞泓科技(商家)

工艺关键词:电离惰性气体轰击靶材、靶材脱落沉积冷却成膜

溅镀的原理，是镀膜机腔体抽真空，直接以薄膜材料(靶材)当做电极，利用电极间见通电5kv~15kv产生的电浆轰击靶材，同时通入气体，气体发生离子化，衡阳pvd电镀，粒子在电浆内移动，离子撞击靶材并使靶材表面原子脱离进而沉积在基板上，冷却浓缩成薄膜。

磁控溅镀

在直流溅镀或射频溅镀的基础上改进电极结构，亦即再把阴极内侧装置一磁铁，并使磁场方向垂直于极暗区电场方向，以便用磁场约束带电粒子的运转，这种溅射法称为磁控溅射。

由于磁场的作用力与电子的运转方向垂直，pvd电镀哪里有，将形成电子回旋运动的向心力，此时中性物种间的撞击机率提高，始之在较低的压力下即能制作薄膜。

除了低压外，磁控溅射的另两项有优点就是高速，低温，因此也称之为高速低温溅镀法。

但是磁控溅镀也存在一些问题，如就平板磁控电极磁控电极而言，靶材中央及周边不为垂直于电厂的磁场分量越来越小，亦即与靶材表面平行的磁场分量小，使得在靶材表面的一个环形区域被溅射的异常快，而中央和边缘处溅射的少，如此下去便会出现w形侵蚀谷，使的靶材利用率降低，并且可能对薄膜的均匀性产生影响。

很多的客户选择在镀---的pvd镀膜产品上，再喷涂上一层透明防指纹清油，pvd电镀表面处理，手摸上去没有指纹印，易于清洗，还可以增加耐磨和耐腐蚀的功能，一举多得。

pvd镀膜层与基材有着---的结合力，不易脱落损坏，产品可进行后续简单的机械加工，如剪，折，弯，切。但是，焊接对pvd膜层影响非常大，瞬间的高温会导致膜层脱落和变色，pvd电镀厂家，因此，先做好构件后再镀色，不能用镀好pvd膜层的材料去加工制作产品。

随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。



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