除了自然材料以外，适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料（abs料、abs+pc料、pc料等等）、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。真空电镀所使用设备通常较为高昂，加上工艺流程复杂，对环境要求高；为此真空电镀单价比水电镀昂贵。真空电镀受设备内真空环境体积影响，因此对靶材尺寸有一定的要求，不适合大靶材，常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3d工件应小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）
真空pvd镀膜产品有一定的耐腐蚀性，金属材料在接触酸碱等强腐蚀性物质时，真空电镀，发生化学反应这个是由材料本身特性决定的。因此，真空电镀哪里有，平时使用或者保养维护时，尽量不选用含强酸强碱或去污能力强的清洗剂，金属清洗剂等直接擦洗表面。此外，真空电镀公司，如果长时间暴露在---环境中，或与腐蚀性液体长时间接触，pvd膜层也容易出现脱落等问题。
真空镀膜运用辉光放电(glow discharge)将ya气(ar)离子碰击靶材(target)外表， 靶材的原子被弹出而堆积在基板外表构成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，可是镀膜速度却比蒸镀慢许多。新式的溅镀设备---都运用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加快靶材周围的ya气离子化， 造成靶与ya气离子间的碰击机率添加， 进步溅镀速率。
通常金属镀膜大都选用直流溅镀，而不导电的陶磁资料则运用rf沟通溅镀，真空电镀报价，---的原理是在真空中运用辉光放电(glow discharge)将ya气(ar)离子碰击靶(target)外表，电浆中的阳离子会加快冲向作为被溅镀材的负电极外表，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上构成薄膜。
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