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真空电镀工艺可能遇到的问题及对策

1.蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响

蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的膜层结构松散易产生大颗粒沉积，常德pvd电镀，为---涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。当真空室内残余气体的压力一定时，则轰击基片的轰击速率即为定值。因此，选择较高沉积速率后的沉积的膜内所含的残余气体会得到减小，从减小了残余气体分子与蒸镀膜材的化学反应。故，沉积膜的纯度即可提高。应当注意的是，沉积速率如果过大可能增加膜的内应力，致使膜层内缺陷增大，---时可导致膜层破。---是，在反应蒸镀过程中，为了使反应气体与镀膜材料粒子能够进行充分的反应，可选择较低的沉积速率。当然，对不同的材料蒸镀应当选用不同的蒸发速率。作为沉积速率低会影响膜的性能的实际例子，是反射膜的沉积。如膜厚为600*10-8cm，蒸镀时间为3s时，其反射率为93%。但是，如果在同样的膜厚条件下将蒸速率放慢，采用10min的时间来完成膜的沉积。这时膜的厚度虽然相同。但是，反射率已下降到68%。

2.基片温度对蒸发涂层的影响

基片温度对蒸发涂层的影响很大。高的基片温度吸附在基片表面上的残余气体分子易于排出。---是水蒸气分子的排除更为重要。而且，在较高的温度下不但易于促进物理吸附向化学吸附的转变，从而增加粒子之间的结合力。而且还可以减少蒸汽分子的再结晶温度与基片温度两者之间的差异，从而减少或消除膜基界面的内应力。此外，由于基片温度与膜的结晶状态有关，在基片温度低或不加热的条件下，往往容易形成非结晶态涂层。相反在较高温度时，则易于生成晶态涂层。提高基片温度也有利于涂层的力学性能的提高。当然，基片温度也不能过高，以防止蒸发涂层的再蒸发。

理论上所有pvd真空镀膜加工都可以添加运用添加剂，下面咱们来看看电镀中运用添加剂的效果：

       1.整平效果

能是基体微粗糙表面变得平坦，下降粗糙度。

       2.润湿效果

可下降金属与溶液的界面张力，pvd电镀厂家，使镀层与基体能---附着，使阴极---出的氢气泡容易脱离，防止生孔。

       3.细化晶粒

能改动镀层的结晶状况，细化晶粒使镀层细密，在锌酸盐镀锌液中假如不加添加剂，得到的是海绵状沉积物，pvd电镀厂，参加添加剂以后，pvd电镀，镀层细密、详尽而亮光。

       4.亮光效果

参加亮光剂并与其他添加剂合作运用，进一步进步镀层亮光度，是装饰性电镀不可或缺的成分。

       pvd真空镀膜加工所用到的添加剂还有许多其他效果，如进步镀层硬度、下降镀层应力等。添加剂应选择运用，有的添加剂兼有几种效果，在镀液中一般含有（1——2）种添加剂。目前运用的添加剂首要是有机化合物或合成物，无机化合物也合作运用。

真空电镀的工件表面必须保持干燥、光滑，否则会影响处理效果。

真空电镀可镀色彩丰富，可以镀7色，比水电镀的颜色要丰富，可达到阳极铝、亮铬、金、银、铜和炮铜（一种铜锡合金）等丰富多彩的效果。水电镀一般只有镀铜（红色），镀镍（偏黄的银色），镀金，镀银（黑色，有深黑，浅黑等），镀铬（银白色）等单调色彩。真空电镀是常见的金属表面处理技术。

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