清溪手机配件ip电镀-深圳市瑞泓科技

相对于传统的电解镀，热浸镀来说，真空镀膜的主要特色是：

（1）成膜温度低。钢铁职业中的热镀锌镀膜温度通常是400℃～500℃，手机配件ip电镀公司，化学镀膜温度更---1000℃以上。这样高的温度很容易导致被镀件的变形、蜕变，而真空镀膜的温度低，能够降到常温，避免了惯例镀膜技能的弊端。

（2）蒸发源挑选自由度大。可挑选的镀膜资料多而不受资料熔点---，清溪手机配件ip电镀，除了热镀锌中常见的锌、铝、锡外，---能够蒸镀一切的金属资料，手机配件ip电镀工厂，还可镀种类很多的金属氮化膜，金属氧化膜和金属炭化物及各种复合膜。这为开展新式带钢资料供给了很大的自由度。

（3）不运用有害气体、液体，手机配件ip电镀表面处理，对环境无晦气影响。在当时越来越重视的大趋势下，这点---可贵。

（4）带钢镀膜---。能取得均匀、平滑且极薄的镀膜，镀膜纯度高，耐蚀性和附着力好。不存在热镀锌中的漏镀点、锌浪、锌花等疑问。

（5）技能灵敏，改动种类便利。可镀单面、双面和单层、多层及混合层。镀膜厚度易于操控。经过断定镀膜时间，能够准确操控镀层厚度，然后避免了热镀锌中常见的厚度不易操控和呈现锌浪等疑问。

总之，带钢真空镀膜是一个集冶金、真空、化学、物理等学科于一体的高新技能，其商品具有高附加值，既有带钢的强度和便宜的特色，又有镀膜后的多功能，多种类，高的特点，是非常具有潜力的新式带钢资料的研制方向！

相对蒸发电镀，磁控溅射有如下的特点：

1．膜厚可控性和重复性好

2.薄膜与基片的附着力强

3.可以制备绝大多数材料的薄膜，包括合金，化合物等

4.膜层纯度高，致密

5.沉积速率低，设备也更复杂

磁控溅射镀膜按照电源类型可分为：直流溅射、中频溅射、射频溅射。

反应溅射的应用：

1.现代工业的发展需要应用到越来越多的化合物薄膜。

2.如光学工业中使用的tio2、sio2和tao5等硬质膜。

3．电子工业中使用的ito透明导电膜，sio2、si2n4和al2o3等钝化膜、隔离膜、绝缘膜。

4.建筑玻璃上使用的zno、sno2、tio2、sio2等介质膜