真空电镀加工-温州真空电镀-深圳瑞泓科技有限公司

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    2024-2-15

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真空系统的基本知识

真空的定义:压力低于一个---压的任何气态空间,采用真空度来表示真空的高低。

真空单位换算:1---压≈1.0×105帕=760mmhg=760托

1托=133.3pa=1mmhg

1bar=100kpa

1mbar=100pa

1bar=1000mbar

tco玻璃=transparent conductive oxide 镀有透明导电氧化物的玻璃

tco材料:

sno2:f(fto fluorine doped tin oxide氟掺杂yang化锡)

zno:al(azo aluminum doped zinc oxide铝掺杂氧化锌)

in2o3:sn(ito indium tin oxide 氧化铟锡)

tco薄膜的制备工艺

1. 薄膜的性质是由制备工艺决定的,改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好,薄膜生长温度低,与基板附着性好,能大面积均匀制膜且制膜成本低。

2.主要生产工艺:镀膜过程中有气压、基片温度、靶材功率、镀膜速度;刻蚀过程中有hcl浓度、刻蚀速度、刻蚀温度。







在塑胶真空电镀中,一般做功能性冷热循环测试ng的原因具体有哪些方面,个人总结如下:

1、铜-镍-铬厚度搭配不当;当镍层和铜层的厚度搭配不当时,做冷热循环,真空电镀哪里好,因镍层的应力较大,在高温或低温时被释放,这时需要利用铜层的延展性进行分散,当铜层的厚度未能完全分散应力时,造成镀层起泡。

2、粗化---或者亲水---;当所用胶件含有pc料或者其他耐火料、增强料等的掺杂,温州真空电镀,使的粗化时,基材的应力未完全得到施放或者粗化不---,导致在冷热循环的高温状态时,真空电镀加工厂,因镀层和基才的结合力不好,而引起起泡。

3、各个镀层之间的结合力---;当后处理各个环节之间的衔接部分,也就是通常所说的活化(弱侵蚀)因更换周期过长,导致---个工序的镀层因在空气或者纯水中停留时间长引起的氧化膜未能完全除去,而导致结合力---,同样在做高低温循环时,导致起泡。

4、添加剂过量;一般出现在铜缸,尤其是当去除铜镀层上的染料的微蚀环节出现问题时(就是那个用较高浓度---或者---配过---铵),很容易造成铜层-镍层之间的结合力差,而引起冷热循环时起泡。

5、所用塑胶电镀问题;一般情况下此问题发生的几率微乎其微,尤其在一个规范的电镀厂,很难出现,主要原因是冷胶团造成的,一般出现在注塑过程中添加塑胶电镀原料而胶液温度还不到标准时就开始注塑成型,导致胶料各个位置的比重不同,而在电镀上镀层后。






真空镀膜和光学镀膜的原理和区别

1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,真空电镀加工,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法。

2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失,提高成像,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜。




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