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即在真空状态注入ya气，ya气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。

总体说来，手机配件用真空电镀膜技术具有以下几个优势：

1、表面增亮：手机刚购买时光度可达80，手机即使沾上灰尘，依然光彩照人。

2、防氧化：用真空镀膜机操作，离子轰击覆盖配件表面，手机配件ip电镀价格，可防止商品---氧化。

3、时间长效：黄金甲具有的表面面积，手机配件ip电镀公司，具有---地附着能力，效果可以维持几年以上，不会氧化，不容易脱落。

4、无任何污染：由于镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境没有危害，手机配件ip电镀厂家，。

真空电镀：vacuum metalizing，即是物理气相沉积（pvd），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。

真空镀膜的方法材料：

(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如ya)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3pa，然后将阴极接上2000v的直流电源，便激发辉光放电，带正电的ya离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。

光学镀膜方法材料

(1)---镁：无色四方晶系粉末，揭阳手机配件ip电镀，纯度高，用其制光学镀膜可提高透过率，不出崩点。

(2)二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

(3)氧化锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高氧化锆镀膜，不出崩点。