真空电镀厂家-真空电镀-瑞泓科技

真空电镀：vacuum metalizing，即是物理气相沉积（pvd），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。

真空镀膜的方法材料：

(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如ya)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3pa，然后将阴极接上2000v的直流电源，便激发辉光放电，带正电的ya离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。

光学镀膜方法材料

(1)---镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制光学镀膜可提高透过率，不出崩点。

(2)二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，真空电镀哪里有，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

(3)氧化锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高氧化锆镀膜，不出崩点。

因镀膜机在真空状态下蒸发靶材生成镀层，故将此制程称为真空电镀。

真空电镀原理：其过程是在真空条件下，采用低电压、高电流的方式将蒸源通电加热，靶材在通电受热的情况下分散到工件表面，并以不定形或液态状沉积在工件表面，冷却成膜的过程

真空镀膜的镀层结构一般为：基材、底漆、真空膜层、面漆，因靶材理化特性直接决定膜层的特性，根据膜层的导电与否，可分为导电真空镀膜（vm）和不导电真空镀膜（ncvm）两种。

vm：一般用在化妆品类、nb类、3c类、汽配类按键、装饰框、按键ring类饰品的表面处理，其表面效果与水电镀相---，靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。

ncvm：具有金属---、透明，但不导电，一般用在通讯类、3c类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、ring类饰品的表面处理，其表面效果为水电镀不可取代，靶材一般为铟、铟锡。

膜层结构分布

基材：abs、pc、abs、pp、ppma、pom等树脂类均可成型真空电镀，要求底材为纯原料，电镀级别---，不可加再生材;

底漆：uv底漆，对基材表面做预处理，为膜层的附著提供活性界面，底漆厚度一般在5-10um，特殊情况可酌情加厚;

膜层：靶材蒸发的结果，vm膜层可导电，ncvm镀层不导电，且抗干扰性效果---，膜层厚度0.3um以下。

面漆：面漆利用三基色原理可与色浆搭配出各类顏色，同時对真空膜层起保护作用，再加上uv、pu的表面装饰，效果更漂亮，厚度 一般在8-10um，特殊情況可酌情加厚 。

面漆颜色多变效果机理：利用三基色原理将面漆与色浆混合调试达成.