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    2024-3-21

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pvd真空镀膜厂家浅谈真空镀膜机常见故障

长期工作的镀膜机抽真空的时间很长且达不到工作真空、恢复真空、---真空、保真空:

1.蒸发室有很多粉尘(应清冼)

2.扩散泵很久未换油(应清冼换油)

3、前级泵反压强太大机械泵真空度太低(应清冼换油)

4、各动密封胶圈损坏(更换胶园)

5.由于蒸发室长期温度过高使其各密封胶园老化(更换胶因)

6、蒸发室各引入水路密封处是否有胶罔损坏(更换胶圈)

7.各引入座螺钉螺母有无松动现象(重新压紧)

8、高低预阀是否密封---(注油)。







真空电镀:vacuum metalizing,即是物理气相沉积(pvd),即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片,广州手机配件ip电镀,如航海望远镜镜片,后来随着技术的改进,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。

真空镀膜的方法材料:

(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。

(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如ya)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3pa,然后将阴极接上2000v的直流电源,便激发辉光放电,手机配件ip电镀加工价格,带正电的ya离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,手机配件ip电镀加工,获得沉积薄膜的过程。

(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。

光学镀膜方法材料

(1)---镁:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制光学镀膜可提高透过率,不出崩点。

(2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

(3)氧化锆:白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高氧化锆镀膜,不出崩点。




真空电镀的工件表面必须保持干燥、光滑,否则会影响处理效果。

真空电镀可镀色彩丰富,可以镀7色,比水电镀的颜色要丰富,可达到阳极铝、亮铬、金、银、铜和炮铜(一种铜锡合金)等丰富多彩的效果。水电镀一般只有镀铜(红色),手机配件ip电镀厂,镀镍(偏黄的银色),镀金,镀银(黑色,有深黑,浅黑等),镀铬(银白色)等单调色彩。真空电镀是常见的金属表面处理技术。




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