真空电镀-瑞泓科技有限公司-真空电镀

真空电镀前处理一般为化学清洗，根据油脂的种类和性质，真空电镀工厂，除油剂包含两种主体成分，碱类助洗剂和表面活性剂。

1、碱类物质。碱类助洗剂常用的为q氧化钠、纯碱、硅酸钠和三聚磷酸钠。q氧化钠和纯碱作为碱剂，价格为便宜，真空电镀，废水较难处理，有时因为碱性偏强导致清洗物体受到损伤，另一方面q氧化钠和纯碱没有乳化作用对于矿物油清洗没有任何效果；

硅酸钠与三聚磷酸钠既能提供碱性，又能提供一定的乳化力，广泛的用于各种除油清洗剂中---是对碱敏感的除油工艺。使用硅酸钠大的缺陷是除油后若不用热水先洗一道，直接冷水洗很难将残留的硅酸钠完全洗净，残留的硅酸钠会与下一道工序的酸反应生成附着牢固的硅胶，真空电镀，从而影响镀层的结合力；三聚磷酸钠则主要存在磷污染破坏环境的担忧。

2、表面活性剂。表面活性剂是除油剂的核x成分，早期的除油剂是以乳化剂的乳化作用为主，如脂肪醇聚氧乙烯醚（aeo）系列、烷j酚聚氧乙烯醚（tx、np）系列等。过多的使用乳化剂会将脱落的油脂乳化增溶于工作液中，导致工作液除油能力逐渐下降，需要频繁更换工作液。

但是随着表面活性剂价格的上升，越来越要求降低表面活性剂的使用量，提高除油的速率，这就要求除油剂具有---的分散和抗二次沉积性能，将脱落的油脂从金属表面剥离，在溶液中不乳化、不皂化，只是漂浮在溶液表面，保持槽液的清澈与持续的除油能力。

另一方面，适合除油的表面活性剂一般为非离子类型的产品，非离子产品普遍价位较高，为了降低除油剂成本，阴离子的产品也会出现有的除油剂的配方中，---是同时具有非离子性质的阴离子型表面活性剂脂肪酸---乙---化物磺酸盐（fmes），具有优异的“分散卷离”特点，有助于油脂的非乳化式剥离去除。

工艺关键词:电离惰性气体轰击靶材、靶材脱落沉积冷却成膜

溅镀的原理，是镀膜机腔体抽真空，直接以薄膜材料(靶材)当做电极，利用电极间见通电5kv~15kv产生的电浆轰击靶材，同时通入气体，气体发生离子化，粒子在电浆内移动，离子撞击靶材并使靶材表面原子脱离进而沉积在基板上，冷却浓缩成薄膜。

磁控溅镀

在直流溅镀或射频溅镀的基础上改进电极结构，亦即再把阴极内侧装置一磁铁，并使磁场方向垂直于极暗区电场方向，以便用磁场约束带电粒子的运转，这种溅射法称为磁控溅射。

由于磁场的作用力与电子的运转方向垂直，将形成电子回旋运动的向心力，此时中性物种间的撞击机率提高，始之在较低的压力下即能制作薄膜。

除了低压外，磁控溅射的另两项有优点就是高速，低温，因此也称之为高速低温溅镀法。

但是磁控溅镀也存在一些问题，如就平板磁控电极磁控电极而言，靶材中央及周边不为垂直于电厂的磁场分量越来越小，真空电镀哪里好，亦即与靶材表面平行的磁场分量小，使得在靶材表面的一个环形区域被溅射的异常快，而中央和边缘处溅射的少，如此下去便会出现w形侵蚀谷，使的靶材利用率降低，并且可能对薄膜的均匀性产生影响。