




镀低折射率膜层,将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室,加热达到80-150℃的工艺温度,向腔室通入工艺气体,设置溅射功率1-15kw,镀膜时间1-300s,耳机配件真空电镀,得到厚度为1-100nm的低折射率膜层,此低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层;
镀高折射率膜层,将镀完低折射率膜层的产品传入装有可形成高折射率膜层的靶材镀膜腔室,加热达到80-150℃的工艺温度,向腔室通入工艺气体,设置溅射功率1-15kw,镀膜时间1-300s,得到厚度为1-100nm的高折射率膜层,耳机配件真空电镀加工,所述高折射率膜层为氧化钛、氮化钛、氧化锆、氮化锆、氧化铌、氮化铌、氧化锌、氧化铟、氧化铝、氧化铁、氧化铬、氮化铬等膜层,此高低折射膜层的工艺气体为ar、n2、o2中的至少一种,其中ar气体流量为10-1000sccm,n2气体流量为10-1000sccm,耳机配件真空电镀哪里近,o2气体流量为10-1000sccm;

pvd膜层能直接镀在不锈钢、硬质合金上、钛合金、陶瓷等表面,对锌合金、铜、铁等压铸件应---行化学电镀铬,然后才适合镀pvd。
pvd镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(tin[钛金]、zrn〔锆金〕、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn),耳机配件真空电镀哪里好,以及氧化物膜(如tio等)。
pvd镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般为0.1μm~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~2μm,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,并能够维持工件尺寸基本不变,镀后不须再加工。
我们目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色,浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色,蓝色,紫色,红色,绿色等。通过控制镀膜过程中的相关参数,可以控制镀出的颜色;镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色值进行测量,使颜色得以量化,以确定所镀出的颜色是否满足要求。
真空电镀适用范围比较广泛,如abs料、abs+pc料、pc料的商品.与此同时因其生产流程繁杂、自然环境、机器设备规定高,且价格比水电镀价格昂贵。
真空电镀是行业里面通称,它归属于电镀技术性的一种,归属于表面真空镀膜解决技术性,它的,解决了表面解决上的许多难点。 真空电镀改性剂是一种特有的附着力改性剂,提高镀层与底材中间的附着力,处理掉镀层,过不上检测等问题。

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