




真空电镀是在真空条件下用蒸发器加热待蒸发物质,手机配件ip电镀哪里有,使其气化并向基板运输在基板上冷凝形成固态薄膜的过程。
真空电镀与其他气相沉积技术相比有许多优点:设备比较简单、容易操作;制备的薄膜纯度高、成膜速度快;薄膜生长机理简单,手机配件ip电镀工厂,易控制和模拟。
真空电镀技术的不足:不易获得结晶结构的薄膜;沉积的薄膜与基板的附着性较差;工艺重复性不够好。
真空蒸发镀膜原理
(1、基片加热电源;2、真空室;3、基片架;4、基片;5、膜材;6、蒸发盘;7、加热电源;8、排气口;9、真空密封;10、挡板;11、蒸汽流)

真空电镀技术指标
镀层厚度:3~5μm。
镀层硬度:1300~1800hv
真空电镀应用说明
1.刃具、模具等工具的表面强化。在高速钢、硬质合金制造的刃具(如钻头、铣刀、车刀)及模具表面获得硬度的tin、tic、zrn等镀层,提高刃具、模具的耐磨性和外观。
2.机械零件的表面强化。如凸轮、叶片、气门、轧辊表面获得耐磨镀层,延长零件使用寿命。
3.彩色膜钢板生产应用。可在尺寸为1m×2m、厚度为0.2mm~0.6mm的不锈钢板和低碳钢板上获得金黄色tin或其它彩色膜,手机配件ip电镀, 耐磨耐蚀性好,彩色膜钢板用于饭店、宾馆、办公大楼等装饰用。
4.日用品的装饰镀。如手表壳、表带、眼镜架、餐具、卫生洁具、吊灯、门把等的装饰。
除了自然材料以外,适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料(abs料、abs+pc料、pc料等等)、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。真空电镀所使用设备通常较为高昂,加上工艺流程复杂,对环境要求高;为此真空电镀单价比水电镀昂贵。真空电镀受设备内真空环境体积影响,手机配件ip电镀哪里近,因此对靶材尺寸有一定的要求,不适合大靶材,常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m(3.94 * 3.3ft),3d工件应小于1.2 * 0.5m(3.94 * 1.6ft)
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