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真空电镀工艺可能遇到的问题及对策

1.蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响

蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的膜层结构松散易产生大颗粒沉积，为---涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。当真空室内残余气体的压力一定时，则轰击基片的轰击速率即为定值。因此，选择较高沉积速率后的沉积的膜内所含的残余气体会得到减小，从减小了残余气体分子与蒸镀膜材的化学反应。故，耳机配件真空电镀厂家在哪，沉积膜的纯度即可提高。应当注意的是，沉积速率如果过大可能增加膜的内应力，致使膜层内缺陷增大，---时可导致膜层破。---是，在反应蒸镀过程中，为了使反应气体与镀膜材料粒子能够进行充分的反应，可选择较低的沉积速率。当然，对不同的材料蒸镀应当选用不同的蒸发速率。作为沉积速率低会影响膜的性能的实际例子，耳机配件真空电镀工厂，是反射膜的沉积。如膜厚为600*10-8cm，蒸镀时间为3s时，其反射率为93%。但是，如果在同样的膜厚条件下将蒸速率放慢，采用10min的时间来完成膜的沉积。这时膜的厚度虽然相同。但是，反射率已下降到68%。

2.基片温度对蒸发涂层的影响

基片温度对蒸发涂层的影响很大。高的基片温度吸附在基片表面上的残余气体分子易于排出。---是水蒸气分子的排除更为重要。而且，在较高的温度下不但易于促进物理吸附向化学吸附的转变，从而增加粒子之间的结合力。而且还可以减少蒸汽分子的再结晶温度与基片温度两者之间的差异，从而减少或消除膜基界面的内应力。此外，由于基片温度与膜的结晶状态有关，在基片温度低或不加热的条件下，往往容易形成非结晶态涂层。相反在较高温度时，则易于生成晶态涂层。提高基片温度也有利于涂层的力学性能的提高。当然，基片温度也不能过高，以防止蒸发涂层的再蒸发。

不锈钢真空电镀的盐雾试验，指的是模拟材料在天然环境下被腐蚀的速度快慢。如在天然情况下腐蚀需要一年，通---工模拟盐雾环境，提高腐蚀的速度，只需72小时即可得到相似的结果。

盐雾试验与不锈钢真空电镀的实际联系主要表现在于用来考核产品的耐腐蚀性能。有两大类，一类为天然环境暴露试验，另一类则是人工加速模拟盐雾环境试验。长辰实业使用的就是人工模拟方法，通过盐雾试验箱创造盐雾环境，其盐雾含量为天然环境的几倍到几十倍，从而加速验证不锈钢产品的。

即在真空状态注入ya气，ya气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。

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